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作為科學儀器和測量解決方案領(lǐng)域的*，AMETEKCAMECA正式發(fā)布新款原子探針顯微鏡EIKOS-UV。EIKOS-UV原子探針顯微鏡耐受高負荷工作強度，使用更方便，同時具有較低的擁有成本。此款顯微鏡采用標準顯微鏡試樣制備方法，可提供納米級結(jié)構(gòu)信息，從而獲得對研究材料的全新了解，同時加快工業(yè)應用產(chǎn)品的開發(fā)進程。
“CAMECA十分自豪地推出EIKOS-UV。”CAMECA事業(yè)部經(jīng)理JesseOlson博士這樣說道。“我們相信，無論是采用電壓脈沖模式還是紫外線激光脈沖模式，通過EIKOS-UV，顯微鏡技術(shù)人員、研究者和工程師行業(yè)的眾多新手都能夠掌握原子探針斷層分析術(shù)，從而在原子層面對其材料進行成像處理”。
Olson繼續(xù)說道，“CAMECA在原子探針測量儀器和應用開發(fā)領(lǐng)域擁有30余年成功經(jīng)驗的積淀，并在此基礎上推出全新EIKOS-UV平臺，從而樶大程度提升商用合金和大學層面的關(guān)鍵研究利用價值。通過EIKOS-UV的設計、布局和空間構(gòu)造，可根據(jù)現(xiàn)場的要求進行靈活配置，可靠性高和使用方便的特性得益于兩項主要儀器創(chuàng)新設計：通過預調(diào)節(jié)內(nèi)置電極，無需進行現(xiàn)場調(diào)節(jié)，以及全新355nm激光脈沖系統(tǒng)”。
EIKOS-UV應用十分廣泛，其中包括金屬、半導體、功能性材料、礦物、原子結(jié)構(gòu)材料、薄膜和涂層。所用標準試樣制備方法和成熟數(shù)據(jù)分析流程，使其成為適用于納米級材料研究和工業(yè)材料開發(fā)、耐受高負荷強度的主力儀器，以及CAMECA原子探針斷層分析術(shù)產(chǎn)品系列的重要擴展。
EIKOS-UV可提供兩個配置方式。第1個是基礎EIKOS系統(tǒng)，其中融合了反射光譜儀的設計，通過電壓脈沖系統(tǒng)獲得很好的質(zhì)量分辨率和噪聲信號，以確保在涵蓋廣泛的冶金應用中實現(xiàn)*的數(shù)據(jù)質(zhì)量。第二個是全配置EIKOS-UV系統(tǒng)，其中將計算機控制的焦點設計加入集成式自動化激光脈沖模塊，以實現(xiàn)更大應用范圍，以及更高等級的噪聲信號?；A型EIKOS系統(tǒng)可在現(xiàn)場升級至EIKOS-UV。
原子探針斷層分析術(shù)(APT或3DAPT)是僅有的在子級三維空間成像和化學成分測量方面都能夠?qū)崿F(xiàn)全面原子級應用的材料分析技術(shù)。此項技術(shù)在20世紀60年代研發(fā)成功，從那時起就一直對材料科學的重大進步產(chǎn)生了重要作用。原子探針顯微鏡由CAMECA進行專屬研發(fā)和制造，已應用于研究和開發(fā)實驗室。
CAMECA原子探針斷層分析術(shù)系列產(chǎn)品，現(xiàn)在有兩個產(chǎn)品系列：LEAP5000(本地電極原子試樣)，其中采用具有納米級分辨率、速度快、靈敏度樶高的三維成像和分析，應用極為廣泛(金屬、氧化物、陶瓷、能量儲存材料、半導體和電子器件、生物礦物和地質(zhì)化學);以及全新推出的EIKOS-UV產(chǎn)品系列，在學術(shù)和工業(yè)應用中，使用都十分方便，而且成本低，從而有利于原子探針斷層分析術(shù)的推廣應用。
關(guān)于CAMECA
CAMECA®擁有60余年材料顯微和納米分析應用領(lǐng)域的科學儀器設計、制造和維護經(jīng)驗。自從在20世紀50年代完成具有開創(chuàng)性的電子探針顯微分析(EMPA)，以及60年代推出二次離子質(zhì)譜儀(SIMS)以來，CAMECA一直是*的，在一些輔助技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了無數(shù)項創(chuàng)新突破，例如低能量電子感應X射線發(fā)射光譜法(LEXES)和原子探針斷層分析術(shù)(APT)。
CAMECA是阿美特克材料分析部門成員，阿美特克是電子儀器和機電設備的*，年銷售額約為50億美金。為材料分析、超精密測量、過程分析、測試測量與通訊、電力系統(tǒng)與儀器、儀表與控制、精密運動控制、電子元器件與封裝、特種金屬產(chǎn)品等領(lǐng)域提供技術(shù)解決方案。共有17,000多名員工，150多家工廠，在美國及其它30多個國家設立了100多個銷售及服務中心。
